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防爆恒温サンプリングシステム
GC分析に使用するサンプル前処理用防爆恒温槽
用途
プロセスガスのGC分析に使用する前処理装置です。
サンプリング機器を恒温槽内に配置し加熱状態でガスの前処理を行います。
防爆地域で使用可能です。
特徴
- サンプリング機器:エア式二方弁、高温用ポンプ、ドレンセパレーター、メンブレンフィルター
- 分析ライン:3ライン
- 恒温槽加熱方式:スチーム加熱
- 恒温槽温度調節範囲:40~100℃
種類
プロセス制御
目的・ターゲット
気体